今后由于提高了堆积速率而镀膜工艺逐步用于工业生产，因此建设了很多PVD电镀厂家。厂家镀膜通常将欲堆积的材料制成板材──靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。体系抽至高真空后充入 10～1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。

        不同的膜层加工办法也不一样，PVD电镀厂家在镀制堆积绝缘膜可选用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。将真空镀膜的高频电源一端接地，一端经过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。
        而溅射化合物膜层可用反响溅射法，即将反响气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响生成化合物（如氧化物、氮化物等）而堆积在基片上。
        PVD镀膜厂家经过大量的试验得知，选用磁控溅射可使堆积速率比非磁控溅射可提高近一个数量级。