离子涂层技术广泛应用于装饰真空涂层机、硬质涂层真空涂层机、连续真空涂层机、汽车零部件真空涂层机等，因其沉积速度快、摩擦均匀性好、膜致密性好、绕射性好等优点，受到市场的青睐。以下是离子真空涂层机涂层技术的详细介绍，希望能对您有所帮助：
 在真空条件下，离子镀是利用气体放电使气体或蒸发物离子化，蒸发物或其反应物在气体离子或蒸发物离子的冲击下蒸发到工件上。包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。离子镀结合了辉光放电、等离子技术和真空蒸镀技术，不仅显著提高了涂层的各种性能，而且大大扩大了涂层技术的应用范围。除了真空溅射的优点外，离子镀膜还具有附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。所以，近年来，国内外发展迅速。借助惰性气体的辉光或弧光放电，离子镀的基本原理是使金属或合金蒸汽离子化。离子电镀包括电镀材料(例如TiN)、TiC）加热、蒸发、沉积过程。经过辉光区时，一小部分蒸发的镀膜材料原子发生电离，在电场的作用下飞向工件，并以数千电子伏的能量射入工件表面，可以进入基体几纳米的深度，从而大大提高了涂层的附着力，而未经电离的蒸发材料原子直接沉积在工件上形成薄膜。工件表面发生惰性气体离子与镀膜材料离子的溅射，还能去掉工件表面的污染物，从而提高附着力。
 离子真空涂层机、蒸发涂层机和磁控溅射涂层机采用不同的技术。这些涂层技术原理也有自己的优势。可根据其涂层工件和膜层选择不同的涂层方法，以满足市场需求。